氧化物薄膜高温生长用有机金属化学气相沉积设备,属于氧化物薄膜材料制备技术领域,具体涉及一种在超高温(大于1100°C)和氧气气氛条件下氧化物半导体及其它氧化物薄膜
功能材料生长的金属有机物化学气相沉积设备。其反应室由其由真空加热腔、内旋转系统、外旋转系统、带有水冷的U型法兰固定装置(1)、带水冷的火炬型中空轴(2)、带水冷的反应室侧壁(5)、喷淋头(6)和抽真空系统(18)组成;火炬型中空轴(2)分为炬体和炬把两部分,其炬把穿过U型法兰底座(1)。旋转电机通过皮带传送带动外旋转系统绕U型法兰底座(1)旋转,从而带动不锈钢旋转轴(7)及圆柱形石英支撑(10)和圆形石墨罩(12)绕真空加热腔旋转。
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