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有机硅基团修饰氟硼二吡咯荧光染料及其制备方法与应用

854   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-18 15:04:02
本发明涉及有机化工、精细化工技术领域，为解决目前所有的研究都是基于碳化学的修饰体系的问题，本发明提出了一种有机硅基团修饰氟硼二吡咯荧光染料及其制备方法，在惰性气体保护下，以碘代BODIPY和含氢硅烷作为原料，在碱性条件下，在溶剂中室温催化反应24~72小时，再经硅胶柱层析分离制得机硅基团修饰的氟硼二吡咯荧光染料。该荧光染料具有优异的光谱性质如高摩尔消光系数、高荧光量子产率，光稳定大大提高，是一种理想的光功能材料。
声明：
“有机硅基团修饰氟硼二吡咯荧光染料及其制备方法与应用” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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