本发明提出了制作纳米孔阵列的方法、纳米孔阵列和纳米孔阵列传感器,制作纳米孔阵列的方法,包括:提供硅片;形成第一掩膜层,形成第二掩膜层;形成第一图案化层;形成第二图案化层;进行第一湿法刻蚀;进行第二湿法刻蚀;形成
功能材料层;对第二刻蚀腔进行第三湿法刻蚀,以形成第三刻蚀腔,暴露位于锥尖的功能材料层;对位于锥尖的功能材料层进行第四刻蚀,以形成多个纳米孔,得到纳米孔阵列。由此,可通过简便的方法制备具有孔径均一、制备流程简便、可重复性高等优点的纳米孔阵列结构。
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