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化学机械研磨方法和半导体结构的形成方法

713   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-18 15:02:31
一种化学机械研磨方法和半导体结构的形成方法。其中，所述化学机械研磨方法包括：提供功能材料层，所述功能材料层中形成有若干凹槽；在所述凹槽的底部和侧壁以及凹槽两侧的功能材料层上形成补偿层；进行化学机械研磨，去除补偿层和部分所述功能材料层，形成上表面齐平的功能层。本发明提高了化学机械研磨所形成功能层上表面的平整度，以及提高了所形成半导体结构的性能。
声明：
“化学机械研磨方法和半导体结构的形成方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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