本发明涉及在基片上形成纳米结构图案的方法。所述方法包括:提供基片;用
功能材料涂覆所述基片,以形成功能材料层;将至少一种A聚合物链和B聚合物链的嵌段共聚物涂覆在所述功能材料层上,以形成层;干燥所述嵌段共聚物,以形成有序的纳米域;除去已干燥的嵌段共聚物的A聚合物链,以形成空隙;然后从A聚合物链已经被除去的地方除去所述功能材料。
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