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半导体器件及其制造方法和电子装置

749   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-18 15:02:31
本发明提供了一种半导体器件及其制造方法和电子装置。所述方法包括：提供第一衬底，所述第一衬底具有第一表面和与之相对的第二表面，在所述第一衬底的第一表面一侧形成有功能材料层，在所述功能材料层内形成有晶体管和第一互连结构；形成内嵌于所述功能材料层表面的第一顶部金属层、第二顶部金属层和第三顶部金属层，所述第一顶部金属层与所述第一互连结构电连接；提供第二衬底，将第二衬底与所述功能材料层相接合；从所述第二表面一侧对所述第一衬底进行减薄处理；同时形成第二金属层和导电插塞，并且所述第二金属层与所述第二顶部金属层电连接，所述导电插塞与所述第三顶部金属层电连接。所述方法工艺步骤更加简单，提高了器件的性能和良率。
声明：
“半导体器件及其制造方法和电子装置” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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