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半导体结构的形成方法

1013   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-18 15:02:31
本发明实施例提供一种半导体结构的形成方法，所述形成方法包括：提供衬底；在所述衬底上形成栅功能结构，所述栅功能结构包括：一层栅功能层或多层栅功能层；形成所述栅功能层的步骤包括：在衬底上形成功能材料层；对所述功能材料层表面进行解复合处理，减少所述栅功能材料层表面的陷阱缺陷俘获的带电离子；所述解复合处理之后，对所述栅功能材料层表面进行钝化处理，减少所述栅功能材料层表面的陷阱缺陷；在所述栅功能结构上形成栅极。所述解复合处理和钝化处理能够减少所形成半导体结构的低频噪声。
声明：
“半导体结构的形成方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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