本发明实施例提供了一种基于缓冲层进行深刻蚀的掩蔽方法,该方法包括:在衬底上形成
功能材料层;在所述功能材料层上形成缓冲层;在所述缓冲层上涂敷一层抗蚀剂材料;对所述抗蚀剂材料进行平面曝光,在所述抗蚀剂材料上形成预设的微结构图形;将抗蚀剂材料上的微结构图形转移到所述缓冲层上;将缓冲层上的微结构图形深刻蚀到所述功能材料层上;去除抗蚀剂材料和缓冲层,获得具有微结构图形的功能材料。通过增加缓冲层保证对功能材料进行深刻蚀的质量。
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