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半导体材料硫化方法

655   编辑:管理员   来源:中冶有色技术网  
2023-03-18 15:02:02
本发明公开了半导体材料硫化方法。本发明提供的方法包括以下步骤:将硫源与半导体材料置于不完全密封的容器,将所述不完全密封的容器置于反应器中加热进行硫化反应,得到硫化的半导体材料。本发明提供的半导体材料硫化方法可使半导体的晶粒尺寸变大,从而更好地晶化。对于作为太阳能电池吸收层材料的半导体,还可以使其衍射峰变强,并使其吸收更多的光。采用本发明提供的硫化方法对非晶硅太阳能吸收层材料进行硫化,可以使其带隙更加接近于硅材料的带隙。本发明提供的方法可以对被处理的半导体起到退火作用,特别适用于铜锌锡硫薄膜的硫化退火,且该方法中使用的装置简单,易于进行大规模生产。
声明:
“半导体材料硫化方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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