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用于激光晶体的光学薄膜结构及其制备方法

769   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-18 15:02:02
本发明涉及一种用于激光晶体的光学薄膜结构及其制备方法，其特征在 于：在传统的用于激光晶体的介质/金属的复合膜系之间增加了一层硬质薄膜 缓冲层，其作用是增加介质-金属复合膜系的结合力，并提高复合膜系的抗激 光损伤阈值，适应了大功率激光器的发展需要。所述的缓冲层薄膜是通过电 子束热蒸发制备的，生长过程是首先将TiN颗粒及清洗后的衬底置于真空生 长室中；将生长室抽真空；利用电子束照射TiN颗粒，同时在真空室中通入 一定量的氮气或是氮离子，TiN缓冲层薄膜就会沉积到衬底上。本发明TiN 缓冲层可以显著提高复合膜系的结合力和抗激光损伤阈值，对于飞速发展的 高功率激光器有着重大的理论和现实意义。
声明：
“用于激光晶体的光学薄膜结构及其制备方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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