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钼钨溅射靶材及其制备方法

902   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-18 15:00:02
本发明公开了一种钼钨溅射靶材及其制备方法，其相对密度为99.0‑99.5％，氧含量为350‑600ppm，原料由纯度≥4N的三氧化钨粉和纯度≥3N的钼粉组成，且三氧化钨粉的含量为15‑20wt％，余量为钼粉，该三氧化钨粉的粒径为7‑10μm，该钼粉的粒径为4.5‑6.5μm。本发明适用于制备平面显示器，组织均匀，无孔洞，且氧含量低。
声明：
“钼钨溅射靶材及其制备方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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真空冶金
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