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铬硅合金溅射靶材及其制备方法

1057   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-18 15:00:01
本发明提供了一种铬硅合金溅射靶材及其制备方法，所述制备方法包括以下步骤：(1)筛分纯度≥99.98％的铬硅合金原料，得到铬硅合金粉末；(2)将步骤(1)所得铬硅合金粉末进行真空热压烧结处理，得到铬硅合金靶坯；(3)将步骤(2)所得铬硅合金靶坯进行机加工，得到铬硅合金溅射靶材；其中，步骤(2)所述真空热压烧结处理包括顺次进行的第一保温处理、第二保温处理与保温保压处理，且所述保温保压处理的加压过程分为至少2个加压阶段。本发明提供的制备方法保证了靶材的高密度，改善了微观结构均匀性和溅射性能，同时简化了工艺流程，提升了生产效率，降低了生产成本，拓宽了适用范围。
声明：
“铬硅合金溅射靶材及其制备方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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