本发明提供了一种用于装饰镀膜的碳化钨靶材及其制备方法,所述制备方法包括以下步骤:(1)筛分纯度≥99.98%的碳化钨原料,得到碳化钨粉末;(2)将步骤(1)所得碳化钨粉末进行烧结温度为1800‑1900℃,压制压力为35‑45MPa的真空热压烧结处理,得到碳化钨靶坯;(3)将步骤(2)所得碳化钨靶坯进行机加工,得到碳化钨靶材;其中,步骤(2)所述真空热压烧结处理包括顺次进行的保温处理和保温保压处理,且所述保温处理的升温过程分为至少3个升温阶段。本发明提供的制备方法精简了工艺流程的同时提升了碳化钨靶材及镀膜质量。
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