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氧化硅陶瓷靶坯的制备方法

920   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-18 14:59:03
本发明提供了一种氧化硅陶瓷靶坯的制备方法，所述制备方法包括以下步骤：球磨混合二氧化硅粉、粘结剂和溶剂，得到喷雾造粒用料浆，再对喷雾造粒用料浆进行喷雾造粒得到球形混合粉末；所述球形混合粉末进行装模、真空热压并冷却得到所述氧化硅陶瓷靶坯；其中，所述真空热压包括依次四段升温和两段加压；所述制备方法采用真空热压烧结法制备出高纯度、高致密度、成材率高的氧化硅靶材，致密度＞99％，纯度≥99.99％，满足磁控溅射对靶材纯度、密度要求。
声明：
“氧化硅陶瓷靶坯的制备方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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