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高纯深紫外镀膜用HfO2材料及其烧结提纯工艺

982   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-18 14:58:54
本申请涉及一种高纯深紫外镀膜用HfO2材料的烧结提纯工艺，该工艺包括：提供HfO2原料、Hf粉原料、分散剂和添加剂，并混合均匀得到粘稠状混合物，各组分的比例为80‑90:0‑20:1‑10:1‑10；干燥；过筛；制成坯料；脱脂并干燥；进行真空烧结，升温至1900‑2400℃并保温200‑300min，然后自然冷却到室温，在原料中添加Hf，保证材料中的Hf和Zr都处于亚氧化的状态，将烧结温度提高到ZrO2‑x相熔点以上且低于HfO2‑x相的熔点，在该温度下HfO2‑x相依然为固体，液化的Zr元素逐渐流出材料，富集在材料表面，并逐渐挥发，以实现Zr/Hf分离；同时高温烧结后的HfO2结构更致密，更利于材料排出杂质，提纯得到的HfO2材料中的Zr含量小于0.1％，明显提高HfO2材料的深紫外光学性能和抗激光损伤性能。
声明：
“高纯深紫外镀膜用HfO2材料及其烧结提纯工艺” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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