本发明公开了一种溅射镀膜用钼旋转靶材的制造方法,包括:将高纯钼粉末均匀地填充在管状模具内,加压成型制备成管状粉质钼坯;将管状粉质钼坯放入冷等静压机压制,等静压致密后得到钼坯;将成型的钼坯放入真空烧结炉内进行烧结,将烧结后的钼坯放入烧结炉中,通入氢气保护,加热、保温后取出进行反复锤锻;将锻打后的钼坯放入真空退火炉内进行退火,然后钼坯随炉冷却至室温;对退火后的钼坯加工后得到钼旋转靶材。本发明得到的钼旋转靶材具有相对密度高、加工性能优良、靶材内部晶粒组织均匀细小、无组织缺陷的特点。
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