本发明公开了一种高致密度钼铌合金靶材及其制备工艺,首先按重量百分比计量称取以下组分:铌粉5%~15%,氢化锆0.1%~0.8%,余量为钼粉,研磨、混匀后采用冷等静压压制成型,再进行真空烧结,或者在氢气气氛中预烧结后再进行真空烧结,最后机加工,即得。本发明利用氢化锆的活化作用,采用普通的
粉末冶金工艺直接制备高致密度的钼铌合金溅射靶材,工艺简单,成本低;同时避免了气孔造成的微粒飞溅,保证了镀膜质量;克服了熔炼铸造工艺组织粗大、成分不均,热压、热等静压工艺的渗碳、成本高,锻造或轧制加工流程长、成品率低的缺点。
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