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半导体元器件用真空烧结装置

1081   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-18 14:57:02
本实用新型公开了一种半导体元器件用真空烧结装置，涉及烧结装置的技术领域。其技术要点是：包括烧结室，所述烧结室的上侧设有出烟口，所述烧结室的下端设有入料口，所述入料口的下侧设有料台，所述料台的下侧设有支撑座，所述支撑座的上端开设有滑槽，所述料台通过支撑腿滑动连接于所述滑槽内，所述支撑腿插接于所述料台的下表面，所述料台一侧的侧壁通过第一连接组件连接有第一气缸，所述料台的下表面设有第二气缸，所述第二气缸通过第二连接组件连接于所述料台。设置的料台，通过设置的第一连接组件能够将料台从一侧推到另一侧，再通过第二连接组件对料台进行升降，具有便于对料台进行移动运输的特点。
声明：
“半导体元器件用真空烧结装置” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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