采用真空烧结工艺制备金属钨及钒钨合金靶材,制备工艺流程步骤依次为:选取纯度≥99.95%,粒度≤5μm的金属钨粉或钒钨合金粉为原料,使用造粒设备将其制成1~3mm粒子,填入模具内振实;等静压压制成型,真空烧结完成后,静置冷却获得靶材成品;粉体先制粒后等静压烧结,工艺简单易行,操作方便,易控制;制备所得的靶材溅射性能优良,杂质少,靶材均匀性好,稳定性高。满足热致变色应用,也适用于光学镀膜。
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