本实用新型涉及一种两段蒸馏的真空炉,属于真空冶金设备技术领域。该真空炉包括炉体、坩埚Ⅰ、坩埚Ⅱ、温控加热构件Ⅰ、温控加热构件Ⅱ、冷凝室、导气管、坩埚支架、支撑板Ⅰ、支撑板Ⅱ,热电偶Ⅰ、热电偶Ⅱ、热电偶Ⅲ,坩埚支架固定设置在炉体底部,坩埚Ⅰ设置在坩埚支架上,支撑板Ⅰ固定设置在炉体内壁,支撑板Ⅱ固定设置在炉体内壁,冷凝室固定设置在支撑板Ⅰ上端、坩埚Ⅱ设置在支撑板Ⅰ下端且固定设置在支撑板Ⅱ上端,冷凝室与坩埚Ⅱ连通,坩埚Ⅰ和坩埚Ⅱ通过导气管连通,温控加热构件Ⅰ与坩埚Ⅰ连接,温控加热构件Ⅱ与坩埚Ⅱ连接,热电偶Ⅰ设置在坩埚Ⅰ内,热电偶Ⅱ设置在坩埚Ⅱ内、热电偶Ⅲ设置在导气管内。
声明:
“两段蒸馏的真空炉” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)