本发明涉及金属混合真空溅射合金靶材材料及其制作方法及用途。本发明的材料由以下物质按重量百分比构成:铜90%-95%,铝1%-6%,铬1%-3%,钛1%-3%。本发明材料的制作方法,包括如下步骤:1)将铜、铝、铬、钛原料按重量百分比充分混合;2)把混合粉末通过
粉末冶金的方法烧结成靶材。上述烧结而成的靶材通过焊接工艺结合在铜或钼的背板上。本发明材料的用途用于通过真空磁控溅射制造不可逆光存储光盘。本发明的金属混合真空溅射合金靶材材料可降低制作光盘的成本,提高光盘使用寿命,提升光盘片的刻录和数据稳定性能。本发明材料的制作方法方便实用。本发明的材料的用途用于替代传传统光盘生产中所用材料。
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