本申请公开了一种制备包覆粉末的装置。该装置主要包括等离子体焰炬、雾化喷嘴、反应器、第一送粉器、第二送粉器。该包覆粉末的方法包括:步骤S1,热源等离子体的产生;步骤S2,将粉末颗粒A送进等离子体;步骤S3,将粉末颗粒B送进由粉末颗粒A产生的金属射流中;步骤S4,包覆粉末A+B。采用本申请制备的包覆粉末具有氧含量及杂质含量低、无外来污染、流动性好等特点,解决了
粉末冶金领域细粉末颗粒送粉困难的问题,解决了涂层制备领域硬质相分布不均匀问题,提高成型件力学性能。
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