一种活化渣剂除硼的方法及其装置,属于
半导体材料及冶金领域。所述装置设有罗茨泵、炉底座、中频感应线圈、保温层、
石墨坩埚、搅拌器和升降装置。方法:将原料硅从进料口投入石墨坩埚中,启动罗茨泵抽真空,启动中频感应电源加热,待温度升至1500℃,使硅块全部熔化;向炉腔内充入惰性气体,使温度保持在1550~1650℃,加入渣剂,启动搅拌器,完成第一次造渣;提高中频感应电源功率,使炉腔内温度达到1700~1800℃,打开进料口,第一次投入渣剂活性成分,抽真空,启动搅拌器,通入惰性气体,完成第二次造渣;待造渣完成后,将硅液浇注到承接坩埚中,静置冷却,取出硅锭,得到提纯后的低硼高纯硅,完成活化渣剂除硼。
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