一种大规模集成电路用高纯钨粉的制备方法,属于钨
粉末冶金技术领域。本发明以工业0级偏钨酸铵为原料,在550-600℃煅烧后于浓氨水中进行溶解形成钨酸铵溶液,钨酸铵溶液通过10μm和1μm过滤器滤去除不溶物等杂质后于90-120℃下进行重结晶得到湿偏钨酸铵,而后经过固液分离、去离子水洗涤和干燥得到纯度为99.999%的高纯偏钨酸铵。高纯偏钨酸铵在氢气气氛中于800-900℃还原得到平均粒度为3-5μm的高纯钨粉。高纯钨粉经过检测后,杂质元素总含量小于10ppm,纯度大于99.999%,可以满足大规模集成电路及半导体
芯片封装行业的使用要求。
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