一种高硅钢材料的制备方法,步骤包括靶材、金属基材表面清理;排除密闭容器内空气、通保护气;双辉光等离子预轰击靶材和基材,净化表面;等离子溅射、加热、保温;缓慢冷却取出。预轰击靶材、基材,去除表面吸附层、活化基材,交替升高基材电压、靶材电压,使靶材中的合金元素被离子轰击而溅射出来、扩散进入基材内部形成表面高硅钢层。“双辉光等离子表面冶金技术”制备高硅钢的工艺简单易行、可控性高、成本低、无污染且基体和表面的结合力高,适合大规模产业化生产;更重要的是该方法采用交替离子轰击、扩渗速度快,结合强度高,得到硅含量均匀分布或呈梯度分布的高硅钢材料,为制备更高品质的无噪音、低铁损的高硅钢产业化奠定基础。
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