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ODS金属薄膜材料的制备方法

926   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-18 14:50:23
本发明公开了一种ODS金属薄膜材料的制备方法，即首次采用磁控溅射的方法，通过改变金属靶材的结构，在Ar气氛中将金属基复合靶材进行溅射、沉积，从而在基底上实现ODS弥散强化金属薄膜材料的制备。本发明的ODS金属薄膜制备方法一方面可有效克服传统粉末冶金等方法复杂的工艺过程和在制备过程中会出现氧化物团聚、分布不均、金属晶粒粗大等问题，另一方面可有效克服传统磁控溅射制备ODS薄膜中氧化物添加不可控，且需要双靶同时溅射等复杂工艺。实现具有纳米量级晶粒尺寸的ODS强化金属基薄膜的制备，实现了氧化物在金属基材料中均匀、可控地添加。
声明：
“ODS金属薄膜材料的制备方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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