增强镀膜玻璃耐磨和耐腐蚀性能的靶材及其制备方法,靶材的主要成分是锆基材料,靶材形状和规格不受限制,可以制成旋转靶材和平面靶材,旋转靶材用等冷喷涂和等离子喷涂工艺制备,平面靶材用
粉末冶金工艺制备靶块,再拼接绑定成大尺寸靶材;靶材结构致密、成分均匀、导电性好;密度为(5.3~5.9)g/cm3,相对密度均>90%。该靶材具有良好的溅射性能,弧光稳定,溅镀速率为(0.5~1.0)nm*m/min,镀制的锆基膜层作为保护膜,和相邻膜层之间有良好的结合力,具有良好的耐磨性和耐候性, 玻璃镀膜后不需要膜面保护,可长期储存,便于异地深加工,并有效防止镀膜玻璃在后续深加工过程中划伤报废,合片前不需边部除膜。
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