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半导体器件的制造方法

695   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-18 14:50:02
本发明提供一种半导体器件的制造方法，包括：提供半导体衬底，在所述半导体衬底上形成层间介电层，在所述层间介电层中形成铜金属互连沟槽或通孔；采用湿法冶金工艺在所述铜金属互连沟槽或通孔的侧壁及底部形成CuMn合金种子层；在所述铜金属互连沟槽或通孔内填充铜金属，以形成铜金属互连结构。根据本发明，可以使形成的CuMn合金种子层不发生悬垂突出现象，以利于后续电镀铜金属的实施。
声明：
“半导体器件的制造方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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