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纯钨或钼薄壁器件的制备方法

1064   编辑:管理员   来源:中冶有色网  
2023-03-18 14:50:02
一种纯钨或钼薄壁器件的制备方法,属于粉末冶金技术领域。工艺步骤为:以紫铜材质制作所需器件的模板,其表面粗糙度Ra低于6.3并保持表面清洁干燥;将模板放入气相沉积室内,以六羰基钨或六羰基钼为反应有机源,高纯氢气或氮气为稀释气,在沉积室压力500~10000Pa、沉积温度280~420℃条件下在模板上进行热解离气相沉积,沉积过程中根据沉积壁厚要求每沉积2~4小时进行一次退火。沉积完成后,关闭有机源阀门,继续通入稀释气保持器件降至室温。将模板表面沉积钨或钼的器件采用硝酸腐蚀去除紫铜模板基体,得到壁厚0.1~3mm的纯钨或钼薄壁器件。优点在于,沉积温度低,沉积速度快,沉积膜纯度高,膜层致密,膜表面的光洁度好,加工流程短,无污染,无腐蚀。
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