本发明属于冶金技术与材料科学领域,具体涉及一种无取向硅钢薄带及其制备方法。本发明所涉及的无取向硅钢薄带,其化学成分按重量百分比计为:Si : 3.0~3.6%,Al : 0.6~1.0%,Mn : 0.1~0.6%,N≤0.005%,S≤0.004%,P≤0.02%,O≤0.003%,C≤0.005%,余量为Fe。无取向硅钢在真空冶炼炉中进行冶炼;然后进行双辊薄带铸轧;铸带在1100℃~1150℃常化3min~5min;预热150℃~300℃进行冷轧;最后进行再结晶退火。该制备方法工艺简单,能耗低,成材率高,产品磁性能优良。
声明:
“无取向硅钢薄带及其制备方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)