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厚度为21.5μm的TiN膜制备方法

654   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-18 14:49:01
本发明公开了一种厚度为21.5μm的TiN膜制备方法，利用真空电弧离子镀技术制备了厚度为21.5μm的TiN膜层，通过对电弧离子镀技术中工艺参数的选择性调整、工艺方法的合理设计，在粉末冶金材料GT35上通过克服材料变形、膜层内应力集中、膜层在锐边夹角容易崩落、长时间沉积厚膜等的种种难题，解决了TiN硬质膜厚度在8μm以上无法制备的现状，得到了膜层厚度、硬度、结合力等性能均优良的TiN厚膜。本发明能为航天技术领域中半球动压马达零件-球碗需要镀TiN厚膜的设计要求提供生产技术支持。对航天技术的发展有非常好的实用价值和市场应用前景。
声明：
“厚度为21.5μm的TiN膜制备方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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