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场发射微纳钨发射极的制备方法

778   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-18 14:47:02
一种场发射微纳钨发射极的成形方法，属于粉末冶金技术领域。首先采用一次或者多次气流磨处理改善钨粉的粉末状态，得到细粒度、高分散、窄分布近球形钨粉颗粒，有利于在成形阶段形成更加均匀的开孔结构。其次将处理后的粉末进行一次或者多次的煅烧处理，以消除气流磨过程中产生的内应力。再次将该粉末与粘结剂混合均匀制成喂料，在微注射成形设备上成形所需形状和尺寸的钨坯体，最后经脱脂和烧结制备出具有均匀孔隙的场发射微纳钨发射极。本发明显著优化了原料粉末和微粉末注射成形工艺，制备出的场发射微纳钨发射极杂质含量低、孔隙均匀、晶粒尺寸≤1μm，孔径200～800nm，孔隙率15～35％，开孔孔隙度占总孔隙度的95％以上。
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