本发明属于
粉末冶金材料制备技术领域,提供一种高致密铬钨合金靶材的制备方法。该铬钨合金靶材包括以下原子百分比的成分:铬80~99%,钨1~20%。该铬钨合金靶材的制备方法为:将钨粉还原后,和铬粉通过预合金粉末制备、装包套、脱气、热等静压、机加工等处理,获得所述铬钨合金靶材。本发明的铬钨合金靶材密度高(相对密度不小于99%)、组织均匀,晶粒细小(不大于50μm);通过该靶材可用于电极触头材料等镀膜领域,制备具有高硬度、高耐电压强度、低截流值、可替代纯钨的薄膜材料。
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