本发明公开了一种在锆表面渗镀铂薄膜的方法,其方法为:将经预处 理后的锆工件置入带有加热装置的真空离子镀膜机,预抽真空至1×10-3Pa, 加热工件至500℃~800℃,保温一定时间,通入氩气,调节真空度至1~ 9×10-1Pa,对工件加载负偏压800~2000V,开启装有铂溅射靶的溅射源; 调节负偏压至100~500V,再沉积一定时间,关闭溅射源,直到锆工件温 度低于100℃后取出。本发明通过控制镀膜工艺参数可制备0.1~10μm的 铂扩渗层和0.1~50μm铂沉积层,制备的铂扩渗层与基体锆没有明显的界 面,呈冶金结合。
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