本发明涉及
粉末冶金技术领域,具体涉及一种高纯钌溅射靶材的制备方法,主要包括破碎、球磨、装模、单向热压成型等步骤,装模过程中,采用3种不同粒度级别的粉料相互填充,最后烧结成型。本发明采用粉末冶金方法,可在低于材料熔点的温度下制备靶材,不仅大大降低了设备的操作难度,也可有效控制制备过程中杂质的引入,还可通过控制原料高纯钌粉体的粒度和烧结工艺制度来实现靶材组织精细度的可控制备,从而在提高钌靶材产品质量稳定性的同时大大降低生产成本,能够得到显微组织均匀可控的高性能低成本高纯钌靶材。
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“高纯钌溅射靶材的制备方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)