本发明公开一种TA15合金表面耐磨Nb‑N共渗层及其制备方法与应用。该Nb‑N共渗层采用双层辉光等离子冶金技术获得沉积在TA15合金表面的Nb‑N共渗层,所述Nb‑N共渗层包括由TA15合金表面向外的扩散层和沉积层,所述沉积层厚度为6‑8μm;所述扩散层为2‑3μm,所述扩散层中Nb‑N含量从扩散层的表面向TA15合金内部逐渐降低。上述TA15合金表面耐磨Nb‑N共渗层在汽车,航空等工业中应用。本发明制得的Nb‑N共渗层与TA15合金基体结合性能优越,整个涂层由外部的沉积层和内部的扩散层组成,实现了涂层与基体的冶金结合,能够在服役过程中有效保护TA15合金。
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