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原位生成超细晶二硅化钼涂层的方法

814   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-18 14:45:02
本发明提供了一种原位生成超细晶二硅化钼涂层的方法,属于原位生成超细晶二硅化钼涂层技术领域。采用冲击大电流直接加热钼箔包裹硅粉末的粉芯箔,利用电热及电爆炸产生的瞬态超高温原位生成二硅化钼,并使二硅化钼熔滴以3000-5000m/s的超高速从喷枪出口喷射至基体表面,形成具有冶金结合的二硅化钼涂层,涂层的晶粒尺寸在100-1000nm范围。解决了热喷涂法原位生成超细晶二硅化钼涂层的技术难点,使涂层与基体达到冶金结合;并具有成本低、制备工艺较简单。
声明：
“原位生成超细晶二硅化钼涂层的方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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