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处理物理冶金法单晶硅返工片的方法

1012   编辑:管理员   来源:中冶有色技术网  
2023-03-18 14:36:59
本发明涉及一种处理物理冶金法单晶硅返工片的方法。其特点是,包括如下步骤:(1)在1#预清洗槽内加入双氧水溶液并且浸没过返工片,溶液中双氧水质量浓度为4%—6%,同时配合超声清洗返工片,控制超声功率及频率范围:1.8kW,频率20—40kHz,时间300s—550s;(2)在2#预清洗槽内加入纯水并且浸没过返工片,控制温度为55℃—65℃,同时配合超声对返工片进行漂洗,控制超声功率及频率范围:1.8kW,频率20—40kHz,时间250s—300s。经过试用证明,采用本发明的方法后,返工硅片表面油污、白斑、手印等脏污经过清洗后完全洗净,降低硅片的报废比例30%以上。
声明:
“处理物理冶金法单晶硅返工片的方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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