本发明是一种等离子表面冶金方法及设备, 属表面冶金或表面化学热处理范畴,是在真空放电 所形成的低温等离子体的条件下,利用双层或多层 辉光放电现象,使被处理工件加热到高温,使欲渗 元素溅射到工件表面,借助于扩散过程而形成包 含有欲渗合金元素的具有特殊物理化学性能的合金 扩散层。本方法可用于渗钨、钼、钛 铬、铝等。如,渗 铬层厚度达300μm,其含铬量达20%以上。故可 用普通金属材料取代价格昂贵的高合金材料。
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