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冶金级单晶以及类单晶硅的绒面制备方法

883   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-18 14:36:48
本发明涉及冶金级单晶以及类单晶硅的绒面制备方法，所述方法包括常规制绒过程，所述方法还包括在所述常规制绒过程之前设置有预处理过程。本发明的方法通过在常规制绒过程之前设置预处理过程，添加碱性物质和氧化物的方法，对于杂质含量高，表面状况复杂的冶金级硅的单晶以及类单晶硅片，获得的绒面效果均匀，清晰，反射率可从14％降到8％，全片硅片反射率的均匀性可达+/-2％。
声明：
“冶金级单晶以及类单晶硅的绒面制备方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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