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冶金硅中杂质磷的去除方法

837   编辑:管理员   来源:中冶有色技术网  
2023-03-18 14:36:25
本发明公开一种冶金硅中杂质磷的去除方法,以块状或粉状的冶金硅为原料,在坩埚底部加入占冶金硅原料重量1%~5%的添加剂,然后进行真空冶炼,将磷去除。本发明具有操作简单、环境协调性好、提纯成本低、能源消耗低的特点。处理后,磷P≤0.1PPM,即满足太阳能级硅对P含量的要求。
声明:
“冶金硅中杂质磷的去除方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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