本实用新型公开了一种沉淀反应用分布反应器,包括:反应容器,具有上部开口的容纳腔;分布器环绕设置且中心形成有安装让位,所述分布器设有分布腔,所述分布腔连通有若干分布孔,所述分布孔的出液液位高于分布腔的最低位置;盖体盖设于反应容器上端以封闭容纳腔上部开口。本实用新型搅拌轴从安装让位穿过,安装时,不产生结构干涉;利用分布孔实现液体均匀分散添加,且由于分布孔的出液液位高于分布腔的最低位置,使得液体刚进入分布腔时,不会立马从分布孔出来,而是等液位高度高于分布孔的出液液位高度时,才从分布孔出去,这样可以尽量减少分布孔由于位置分布的差异而导致的出液量的差异,提高液体添加的均匀性。
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