本实用新型公开了一种去除
多晶硅中磷杂质的设备,包括真空室、真空室内的
石墨坩埚、设于石墨坩埚外部的保温套以及缠绕在保温套外壁上的感应线圈,其特征在于,所述石墨坩埚内设有搅拌机构,所述搅拌机构包括竖直设置的搅拌桨以及导流筒,所述导流筒通过安装架与真空室顶壁固定连接,所述搅拌桨的桨叶处于所述导流筒内。本实用新型通过在石墨坩埚内设置搅拌机构,可以让熔融的硅液在石墨坩埚内上下翻滚,使得磷蒸汽能够迅速挥发,降低能耗和成本。
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“去除多晶硅中磷杂质的设备” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
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