本发明涉及感应蒸发去除
多晶硅中杂质硼的方法及装置,所述方法是在高真空气氛中,采用感应线圈对高硼多晶硅进行熔炼至液态;再将所得液态硅蒸发并沉积出低硼多晶硅;最后将低硼多晶硅加以收集的工艺过程;所述高硼多晶硅的含硼量为0.0001%~0.001%,低硼多晶硅的含硼量为0.00002%~0.0001%。所述装置,包括放置于真空室内外围套有感应线圈的坩埚及其上的沉积板,所述沉积板通过其上与其连为一体的支撑杆插挂于所述真空圆桶的上部桶壁上并与所述桶壁螺纹连接。本发明利用感应加热去除多晶硅中杂质硼,产量大,去除效果好、效率高,提纯效果稳定,方法简单易行,适合大规模工业生产。
声明:
“感应蒸发去除多晶硅中杂质硼的方法及装置” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)