本发明公开了一种大尺寸钌基合金溅射靶材及其制备方法,钌基合金靶材包括Al,Co,Cr等元素中的一种或几种,其余为Ru,钌基合金靶材为圆饼状,其直径不小于100mm,致密度不低于99.5%,且其中心区域与边缘区域的致密度差不超过0.3%,且Ru与其他合金元素形成的第二相均匀的分布在Ru基体相中。所述的钌基合金溅射靶材的制备方法,包括通过气体雾化法制备熔点偏低的脆性相钌基合金粉末,再通过气流磨处理该脆性相获得了细小均匀的合金粉末,最后经粉末烧结制备出直径尺寸在100mm以上的钌基合金靶材,本发明获得的合金靶材杂质含量低,致密度高且均匀,成份分布均匀,晶粒细小均匀,使用该靶材溅射成膜的厚度均匀性,性能稳定以及减少了溅射过程的异常放电现象等。
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