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磁控溅射用镶嵌靶材

778   编辑:管理员   来源:中冶有色技术网  
2023-03-18 14:33:05
本实用新型涉及一种靶材,具体涉及一种磁控溅射用镶嵌靶材,包括基板,基板与冷却背板相连,圆柱状嵌体嵌入到基板和冷却背板的内部,圆柱状嵌体对称设置在基板上表面横向中心线的两侧,基板和冷却背板上设置有台阶孔。本实用新型结构简单,易于加工,节约材料,成本低,并可达到熔炼或粉末冶金靶材相同的溅射效果。
声明:
“磁控溅射用镶嵌靶材” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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