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锗锑碲化合物相变材料溅射靶材生产方法

719   编辑:管理员   来源:中冶有色技术网  
2023-03-18 14:32:51
本发明涉及靶材生产制备领域,具体而言,涉及一种锗锑碲化合物相变材料溅射靶材生产方法。包括:将质量分数为13%~16%的锗,22%~25%的锑,60%~64%的碲混合,组成原料;对原料进行真空熔炼处理,得到GeSbTe金属化合物;将GeSbTe金属化合物进行粉末冶金处理,得到干燥的GeSbTe粉末;将干燥的GeSbTe粉末进行真空热压烧结处理,得到锗锑碲相变材料溅射靶材。本发明中的锗锑碲相变材料溅射靶材生产方法,将利用真空熔炼方法,完成锗锑碲所形成稳定化合物制成粉末,使之成分均匀;后将该粉末放入热压机进行高压烧结,形成致密的靶材。用该工艺,解决了粉末成分可能出现不均,或密度不高的技术问题。
声明:
“锗锑碲化合物相变材料溅射靶材生产方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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