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高真空钽加热炉是高温电阻加热炉。以钽为加热元件，适用于高真空状态下对金属、非金属及其化合物进行烧结、熔化，也可以对小型样品进行真空钎焊的操作，如硬质合金、镍基合金、粉末冶金、镍钴合金、合金钢、不锈钢、稀土钕铁錋等。高真空钽加热炉极限工作温度为2000℃，工作最高温度1800℃，工作过程中的加热速度可以通过温控表进行设置，但升温速度过快会使钽炉胆的寿命会有所降低，为了延长炉子的使用寿命，推荐每分钟的升温速度为20℃，在500℃以下可以适当加快升温速度。
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KSL-1700X-H2 是一款通过 CE 认证的高温箱式炉，此款仪器专门针对于材 料在氢气环境或惰性气体环境进行烧结或是退火，其最高温度可高达 1700℃。 KSL-1700X-H2采用氧化铝纤维作为炉膛材料（炉膛尺寸为200 x 200 x 200 mm）， 以钼丝作为加热元件，炉体顶部密封板中嵌有冷却水管，以保证仪器工作时的密 封性能。对需在惰性气体或还原性气体环境下烧结的材料（如荧光材料，钛合金 等），KSL-1700X-H2 是一个非常好的选择。
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双管滑动快速加热冷却炉OTF-1200X-4-C4LVS是特殊的双管CVD系统，是专为在金属箔上生长薄膜而设计的，特别适用于新一代能源——柔性金属箔电极方面的研究。本机可通过滑动炉体，实现快速加热和冷却。
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1200℃双温立式炉OTF-1200X-4-VT-II是双温区可垂直开启式立式管式炉，其炉管直径可制作为100mm，适合于在真空或气氛保护环境下对样品进行吊烧和淬火。炉体下端装有一移动架，以便移动。
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1400℃双温区真空气氛管式炉GSL-1400X-II以硅碳棒为加热元件，采用S型单铂铑热电偶测温和518P温控仪自动控温。本机设有真空装置，可在多种气氛下工作，主要用于电子陶瓷产品的预烧、烧结、镀膜、高温热解低温沉积（CVD）等工艺，特别适合批量生产使用。
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2100℃高温钨加热炉HVF-2100W-60适用于高真空状态下对金属、非金属及其化合物进行烧结、熔化，也可以对小型样品进行真空钎焊的操作，如硬质合金、镍基合金、粉末冶金、镍钴合金、合金钢、不锈钢、稀土钕铁錋等。2100℃高温钨加热炉HVF-2100W-60工作过程中的加热速度可以通过温控表进行设置，但升温速度过快对钨炉胆的寿命会有所降低，为了延长炉子的使用寿命，每分钟的升温速度不宜超过40℃。
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1700℃箱式炉（36L）KSL-1700X-A4采用侧开式炉门，以硅钼棒为加热元件，智能温度调节仪和B型双铂铑热电偶配套使用，对炉内温度进行测温调节和自动控制，最高工作温度可达1700℃，与同系列其他型号相比，具有更大的有效炉膛。
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大口径管式真空气氛炉GSL-1100X是一款适用于大尺寸样品烧结的管式炉，采用高纯石英管，外径规格多样（6″、8″、8.5″、11″），配备不锈钢法兰，可抽真空或通入气氛气体。其最高温度可达1100℃，工作温度1000℃，采用PID控制器，支持51段控温程序，控温精度±1℃，保温效果好，炉膛温度均匀性高。设备安全可靠，操作简单，适用于多种气氛环境下的材料烧结、合成及热处理等实验。
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CIP-50MAF（分体式）电动等静压机是把制品放置于盛满液体的密闭容器中，通过对其各个表面施加相等的压力，在高压的环境下，使得制品的密度变大，并得到所需的形状。随着科学技术的进步，等静压机越来越广泛应用于粉末冶金、复合材料、耐火材料、陶瓷、硬质合金等的成型。本机的设计是针对于大专院校、科研院所的材料研究部门，具有体积小、运行可靠、操作容易的特点。
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三靶高真空磁控镀膜溅射系统是一款国产小型科研与教学用镀膜设备，采用模块化设计，安装灵活、易于维护。该设备由超高真空双靶磁控溅射室、旋转样品架、磁控溅射靶、抽气系统等组成，极限真空优于5.0×10⁻⁵Pa，可实现单靶、双靶轮流或共溅射，支持反应磁控溅射制备多种膜系，具备快速抽气、不停机更换样品、加热与旋转样品等功能，性价比高，适用于单层膜、多层膜系的镀制及各类材料的薄膜制备实验。
2025年03月28日 ~ 30日 
2025年03月28日 ~ 30日 
2025年03月28日 ~ 30日 
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2025年04月27日 ~ 29日 
