该设备炉管可360°旋转,有助于粉料的烧结更均匀,可大角度倾斜,方便进出料,倾斜角度在0-35°之间。
本公司研发生产的ZMF-1700C真空箱式炉系列用于在1600℃下半导体器件、金属材料的热处理和还原 性烧结等工艺,也可用于产品的炭化试验。该炉采用电阻丝加热,PID程序控温仪控制,温控仪可设定30段升温曲线、PID控制参数自整定、并具有断 偶、超温报警保护等功能。炉体采用超轻质高铝纤维材料,具有热容小、温度升降控制灵活、节能等特点,设备可根据真空度的需要分别选用机械泵或真空机组, 非常适合于试验和小批量生产之用。
1200℃开启式真空管式炉不仅可以抽真空,也可以通气体保护。其结构使得拆装炉管方便,操作简捷,使用者可直接将密封腔体移出炉体,加快降温过程,透明石英管腔体可直观的看到样品烧结状态。法兰采用卡箍快捷接头,减去了取放料时的繁琐操作, 炉管工件横穿与上下各6组进口电阻丝的炉膛,温场均匀,内外温差可控制在3度左右,气动弹簧支撑结构让操作者可各角度安全开启。广泛应用在半导体、纳米材料、碳纤维、石墨烯等新材料、新工艺领域。
滑轨式快速升降温炉是专为生长薄膜石墨烯研制的,也同样适用于要求升降温速度比较快的CVD实验,操作时可将实验需要的恒定高温直接推到样品处,使样品能得到一个快速的升温速度,同样也可将高温的管式炉直接推离样品处,使样品直接暴露在室温环境下,得到快速的降温速率。