1200℃开启式真空管式炉可通气氛抽真空,设备采用开启式结构,安装拆卸方便。石英管确保在高真空条件下使用。进气端法兰采用折页式法兰设计,避免取放料时的繁琐操作, 炉管工件横穿与进口电阻丝的炉膛,温场均匀,内外温差可控制在5度左右,气动弹簧支撑结构让操作者可各角度安全开启,该款广泛应用在半导体、纳米材料、碳纤维、石墨烯等新材料、新工艺领域。
纤维连续热处理设备为我司研发用于薄膜材料连续生长专用设备或薄膜材料连续热处理使用,成套系统配有真空系统,气体流量控制系统,可实现多种实验调整,同时具有一定的产能要求。真空腔室内采用动密封,确保系统在真空或气氛保护条件下工作,适用于连续生长等工艺要求。
该设备炉管可360°旋转,有助于粉料的烧结更均匀,可大角度倾斜,方便进出料,倾斜角度在0-35°之间。
本公司研发生产的ZMF-1700C真空箱式炉系列用于在1600℃下半导体器件、金属材料的热处理和还原 性烧结等工艺,也可用于产品的炭化试验。该炉采用电阻丝加热,PID程序控温仪控制,温控仪可设定30段升温曲线、PID控制参数自整定、并具有断 偶、超温报警保护等功能。炉体采用超轻质高铝纤维材料,具有热容小、温度升降控制灵活、节能等特点,设备可根据真空度的需要分别选用机械泵或真空机组, 非常适合于试验和小批量生产之用。
1200℃开启式真空管式炉不仅可以抽真空,也可以通气体保护。其结构使得拆装炉管方便,操作简捷,使用者可直接将密封腔体移出炉体,加快降温过程,透明石英管腔体可直观的看到样品烧结状态。法兰采用卡箍快捷接头,减去了取放料时的繁琐操作, 炉管工件横穿与上下各6组进口电阻丝的炉膛,温场均匀,内外温差可控制在3度左右,气动弹簧支撑结构让操作者可各角度安全开启。广泛应用在半导体、纳米材料、碳纤维、石墨烯等新材料、新工艺领域。
BTF-1200C-HP高温高压管式炉,其炉管采用镍基合金钢管,最高温度可耐1100℃,800℃工作条件下,最大压力可达4mpa,密封形式采用CF法兰密封,密封圈为金属无氧铜密封圈,最大真空度可以达到10-4 Pa,而且此款设备的炉管抗氧化性较强,可以在高温状态下通入氧气和水蒸气,设备上装有压力传感器和电磁阀,当压力传感器检测到内部压力大于所设定的压力时通过信号传送至高压电磁阀,电磁阀打开释放出多余压力,以保证内部压力与所设定相同。
ZMF-1700C-H2是一款自主研发的高温气氛箱式炉,此款仪器专门针对于材料在氢气环境或惰性气体环境进行烧结或是退火,其最高温度可高达1700℃。ZMF-1700C-H2采用氧化铝纤维作为炉膛材料,以钼 丝作为加热元件,炉门、炉顶采用高温硅橡胶密封,炉门配备水冷系统。炉体上有进气口、出气口、抽真空口,以保证仪器工作时的密封性能。对于需在惰性气体或还原性气体环境下烧结的材料(如荧光材料,钛合金等),ZMF-1700C-H2是一个非常好的选择。